먼저 반도체 제조용 포토마스크의 정의는 아래와 같다.(상식) " 유리기판 위에 반도체의 미세회로를 형상화 한 것. 즉, 투명한 석영기판 상층에 도포된 크롬 박막을 이용해 반도체 집적회로와 LCD 패턴을 실제 크기의 1~5배로 식각해 놓은 것으로 반도체 생산공정에 반드시 필요하다." 포토마스크(Photomask)의 세부적으로 들어가 보면 Pellicle, Pellicle Frame, Reticle,PSM등등으로 다시 세부적인 기술을 이야기를 할수 있는데.. 일단 여기서 Blank Mask쪽만 보고 그 이후의 공정이나 관련 기술적 설명은 생략하겠다. 간단히 말해 BlankMask는 즉 Photomask의 패터닝하기전의 글라스원판인 원재료를 말한다. (사실..그냥 보면 깨끗한 사각의 유리원판모습이다) 이 원판..
