OPC(optical proximity correction)의 약자로 마스크 패턴을 웨이퍼에 비출 때, 미리 변형될 값을 계산하여, 이변형값을 보정하는 패턴을 의미한다. 위의 Flow Diagram은 OPC Model에 의한 기본적 단계를 보여준다. 즉 Lithography Tool에서 Diffraction-Induced Limitation의 보정을 예상해준다. Advanced OPC에서는 Mask상의 아주 작은 변화의 다각형(Tiny Perturbation Polygons)의 추가나 제거를 통해 웨이퍼의 특정위치상의 End Pattern의 개선된 결과를 만든다. a) Solid white모양의 Mask Design과 검정색선은 OPC로 예상되는 패턴의 외곽선을 나타낸다.b) Serifs의 예로 디자인모..
