Applied Materials의 에처 홍보 자료인 Centris Sym3 Y Magnum은 EUV 패터닝에서 20% 향상된 CDU(치수 균일성), 더 나은 확률적 성능, 매몰된 워드 라인 식각에서 2배 향상된 선택성, 그리고 DRAM 공정에서 SAXP용 Pioneer 하드마스크 필름에서 25% 향상된 LWR(선폭 거칠기)을 보여주고 있습니다. Sym3는 식각 공정 중에 미세한 각도의 이온과 더 나은 이온-라디칼 비율 제어를 제공하여 PR(포토레지스트) 형상을 개선하고 대칭적으로 유지할 수 있으며, 이는 피치 워킹 및 CD(치수) 불균형을 개선할 수 있습니다. 매우 흥미롭고 유익한 자료입니다.
* 출처: 어플라이드머트리얼
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